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Rubrik: Science Life
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Publiziert: 16.01.2002 06:00

Nanotechnologie ohne Reinraum und Vakuum
Saubere Mikro-Lithografie

(cm) Bisher angewandte Verfahren zur Lithografie in Dünnfilmen haben ein Problem: Verschmutzung durch Staubpartikel. Dieser Fehleranfälligkeit kann mit kostspieligen Reinraum- und Vakuumeinrichtungen begegnet werden. Doch jetzt gibt es auch eine alternatives Verfahren, wie eine Arbeit der ETH-Forscher Daniel Häfliger und Andreas Stemmer an Aluminiumfilmen zeigt. Die Vorteile des neuen Verfahrens, bei dem ein Laser nicht-leitende Muster in einen 15 bis 650 Nanometer dicken Aluminiumfilm schreibt, sind eine Reduktion der Produktions-Schritte, und dass es weder teure Reinraumeinrichtungen noch Zusätze von Säuren, Laugen oder Hemmstoffen benötigt. In Zukunft könnte die Neuentwicklung bei Prototypen für lithographische Masken oder kostengünstigen elektrischen Schaltkreisen angewendet werden.

mikrolithgrafie
Experimenteller Aufbau: mit dieser Anordnung betrieben die ETH-Forscher Daniel Häfliger und Andreas Stemmer erfolgreich und effizient Aluminium-Lithografie. gross


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mikrolithografie
Gewollt Gräben "aufgerissen": 16 mal 20 Mikrometer grosser Ausschnitt von zwei elektrisch isolierenden Gräben, die in einer 60 Nanometer dicken Aluminiumschicht korrodiert wurden (aufgenommen mit einem Rasterkraftmikroskop). gross

Aluminium ist ein stark reagierendes Material, das bei Kontakt mit Wasser eine dünne Schutzschicht bildet. Diese schützt das Aluminium vor Korrosion. Durch Erhitzen mit einem Argon-Ionen-Laser wird nun diese Schutzschicht lokal aufgelöst, sodass das Aluminium korrodiert und weggeschwemmt wird. Dieser Vorgang kann, wie die ETH-Forscher demonstrierten, in reinem Wasser bei Temperaturen knapp unter dem Siedepunkt und unter normalen Laborbedingungen durchgeführt werden. Lässt man das Metall bis auf das Substrat - in der präsentierten Arbeit Glas - "durchrosten", entstehen elektrisch isolierte Bahnen. Die Gräben variieren in Breite, je nach Dicke des Films, zwischen 266 und 600 Nanometer. Die benötigte Laserstrahlleistung reicht für das beschriebene Vefahren von 1.7 bis 30 Milliwatt. Das Arbeiten mit einer solch kleinen Laserleistung wird möglich, da die Auflösung des Aluminiums im Wasser und nicht an der Luft stattfindet.

Die Autoren der Studie vermuten, dass der Prozess ausser auf Aluminium auch auf andere Materialien anwendbar ist.


Fussnoten:
(1) D. Haefliger, A. Stemmer: "Structuring of aluminium films by laser-induced local oxidation in water: Applied Physics, A 74, 115-118



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